Caracterización e identificación de la planta horno de vacío y bombardeo iónico para procesos de implantación iónica por inmersión en plasma (PIII) y propuesta de estructura de control
Fecha
2018Director
Versión
Acceso abierto / Sarbide irekia
Tipo
Trabajo Fin de Grado/Gradu Amaierako Lana
Impacto
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nodoi-noplumx
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Resumen
El uso de la Implantación iónica como método para introducir/dopar átomos dentro de
un material mediante el bombardeo con iones acelerados es utilizado habitualmente
en algunos sectores industriales. Sin embargo, cuando la energía utilizada para
acelerar los iones no es suficiente para conseguir alojarlos a la profundidad deseada en
el material, debemos favorecer su penetración mediante l ...
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El uso de la Implantación iónica como método para introducir/dopar átomos dentro de
un material mediante el bombardeo con iones acelerados es utilizado habitualmente
en algunos sectores industriales. Sin embargo, cuando la energía utilizada para
acelerar los iones no es suficiente para conseguir alojarlos a la profundidad deseada en
el material, debemos favorecer su penetración mediante la difusión térmica. Es
decir,
debemos aumentar la temperatura que el propio bombardeo ocasiona en la muestra,
mediante la aplicación de calor con un horno en vacío donde las condiciones del
bombardeo iónico pueden ser cambiantes y por tanto su contribución a la temperatura
final. Este es el caso de la técnica denominada Implantación Iónica por inmersión en
plasma (PIII) donde la energía de aceleración es menor a 30KeV.
El objetivo a largo plazo consiste en mantener constante la temperatura
seleccionada de la muestra
sometida a bombardeo iónico para conseguir una
penetración de los iones deseada. [--]
Materias
Implantación iónica,
Feedforward,
Plasma,
Horno de vacío,
Control anticipativo,
Implantación iónica por inmersión en plasma,
PIII,
PI3,
Difusión térmica,
Sputtering,
Bombardeo iónico,
Tratamiento térmico
Titulación
Graduado o Graduada en Ingeniería Eléctrica y Electrónica por la Universidad Pública de Navarra /
Ingeniaritza Elektriko eta Elektronikoko Graduatua Nafarroako Unibertsitate Publikoan