Nanoestructuración de superficies para optimizar la deposición de materiales por láser
Fecha
2019Autor
Versión
Acceso abierto / Sarbide irekia
Tipo
Trabajo Fin de Grado/Gradu Amaierako Lana
Impacto
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nodoi-noplumx
|
Resumen
En este Trabajo final de Grado se
presenta un método de optimización del proceso de deposición
de material por LIFT,
gracias a un descenso de la reflectancia debido a la nanoestructuración de
la
interfaz vidrio cobre.
Se
ha
trabajado con los
diferentes procesos de nanofabricación como la
deposición de las distintas capas que intervienen
en él, la
litografía por interferencia lás ...
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En este Trabajo final de Grado se
presenta un método de optimización del proceso de deposición
de material por LIFT,
gracias a un descenso de la reflectancia debido a la nanoestructuración de
la
interfaz vidrio cobre.
Se
ha
trabajado con los
diferentes procesos de nanofabricación como la
deposición de las distintas capas que intervienen
en él, la
litografía por interferencia láser,
para
crear el patrón nanoestructurado,
o
el ataque por iones reactivos
para grabar los patrones
nanoestructurados.
La finalidad de este trabajo es ver que con la optimización de los procesos de nanofabricación
gracias a la previa simulación con software, se llega no sólo a disminuir la reflectancia con un
sustrato específico, sino que con técnicas de Nanoimprint
térmico se puede transferir un patrón
deseado a un sustrato de PVC que permite su uso en técnicas de fabricación avanzada y gran
eficiencia como el
Roll to Roll. [--]
Materias
Lift,
Litografía,
Nanofabricación,
Reflectancia,
stack
Titulación
Graduado o Graduada en Ingeniería Mecánica por la Universidad Pública de Navarra /
Ingeniaritza Mekanikoko Graduatua Nafarroako Unibertsitate Publikoan