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dc.creatorDel Villar, Ignacioes_ES
dc.creatorRuiz Zamarreño, Carloses_ES
dc.creatorHernáez Sáenz de Zaitigui, Migueles_ES
dc.creatorSánchez Zábal, Pedroes_ES
dc.creatorArregui San Martín, Francisco Javieres_ES
dc.creatorMatías Maestro, Ignacioes_ES
dc.date.accessioned2018-03-28T07:51:21Z
dc.date.available2018-03-28T07:51:21Z
dc.date.issued2014
dc.identifier.issn0030-3992 (Print)
dc.identifier.issn1879-2545 (Electronic)
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/2454/28108
dc.description.abstractSilicon wafers coated with IndiumTinOxide (ITO) by application of sputtering technique have been characterized after different post-annealing techniques, showing that this last factor is critical for the quality of the thin-film and for the creation and tuning of both surface plasmon resonances and lossy mode resonances. By adequate selection of the ITO thin-film thickness both resonances can be tracked in the same spectrum, which can be used in sensor and optical communications fields.en
dc.description.sponsorshipThis work was supported in part by the Spanish Ministry of Education and Science-FEDER TEC2013-43679-R.en
dc.format.mimetypeapplication/pdfen
dc.language.isoengen
dc.publisherElsevieren
dc.relation.ispartofOptics & Laser Technology, vol. 69, june 2015, pgs. 1-7en
dc.rights© 2014 Elsevier B.V. The manuscript version is made available under the CC BY-NC-ND 4.0 license.en
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/
dc.subjectThin filmsen
dc.subjectOptical resonanceen
dc.subjectSensorsen
dc.titleGeneration of surface plasmon resonance and lossy mode resonance by thermal treatment of ITO thin-filmsen
dc.typeArtículo / Artikuluaes
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/articleen
dc.contributor.departmentIngeniería Eléctrica y Electrónicaes_ES
dc.contributor.departmentIngeniaritza Elektrikoa eta Elektronikoaeu
dc.rights.accessRightsAcceso abierto / Sarbide irekiaes
dc.rights.accessRightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessen
dc.identifier.doi10.1016/j.optlastec.2014.12.012
dc.relation.projectIDinfo:eu-repo/grantAgreement/MINECO//TEC2013-43679-R/ES/en
dc.relation.publisherversionhttps://doi.org/10.1016/j.optlastec.2014.12.012
dc.type.versionVersión aceptada / Onetsi den bertsioaes
dc.type.versioninfo:eu-repo/semantics/acceptedVersionen


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© 2014 Elsevier B.V. The manuscript version is made available under the CC BY-NC-ND 4.0 license.
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