Clemente Jiménez, Javier2019-07-262019-07-262019https://academica-e.unavarra.es/handle/2454/33699En este Trabajo final de Grado se presenta un método de optimización del proceso de deposición de material por LIFT, gracias a un descenso de la reflectancia debido a la nanoestructuración de la interfaz vidrio cobre. Se ha trabajado con los diferentes procesos de nanofabricación como la deposición de las distintas capas que intervienen en él, la litografía por interferencia láser, para crear el patrón nanoestructurado, o el ataque por iones reactivos para grabar los patrones nanoestructurados. La finalidad de este trabajo es ver que con la optimización de los procesos de nanofabricación gracias a la previa simulación con software, se llega no sólo a disminuir la reflectancia con un sustrato específico, sino que con técnicas de Nanoimprint térmico se puede transferir un patrón deseado a un sustrato de PVC que permite su uso en técnicas de fabricación avanzada y gran eficiencia como el Roll to Roll.application/pdfspaLiftLitografíaNanofabricaciónReflectanciastackinfo:eu-repo/semantics/bachelorThesis2019-07-25info:eu-repo/semantics/openAccess