Show simple item record

dc.creatorMedrano Fernández, Ángel Maríaes_ES
dc.date.accessioned2018-08-14T09:16:08Z
dc.date.issued2018
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/2454/29853
dc.description.abstractEl uso de la Implantación iónica como método para introducir/dopar átomos dentro de un material mediante el bombardeo con iones acelerados es utilizado habitualmente en algunos sectores industriales. Sin embargo, cuando la energía utilizada para acelerar los iones no es suficiente para conseguir alojarlos a la profundidad deseada en el material, debemos favorecer su penetración mediante la difusión térmica. Es decir, debemos aumentar la temperatura que el propio bombardeo ocasiona en la muestra, mediante la aplicación de calor con un horno en vacío donde las condiciones del bombardeo iónico pueden ser cambiantes y por tanto su contribución a la temperatura final. Este es el caso de la técnica denominada Implantación Iónica por inmersión en plasma (PIII) donde la energía de aceleración es menor a 30KeV. El objetivo a largo plazo consiste en mantener constante la temperatura seleccionada de la muestra sometida a bombardeo iónico para conseguir una penetración de los iones deseada.es_ES
dc.format.mimetypeapplication/pdfen
dc.language.isospaen
dc.subjectImplantación iónicaes_ES
dc.subjectFeedforwardes_ES
dc.subjectPlasmaes_ES
dc.subjectHorno de vacíoes_ES
dc.subjectControl anticipativoes_ES
dc.subjectImplantación iónica por inmersión en plasmaes_ES
dc.subjectPIIIes_ES
dc.subjectPI3es_ES
dc.subjectDifusión térmicaes_ES
dc.subjectSputteringes_ES
dc.subjectBombardeo iónicoes_ES
dc.subjectTratamiento térmicoes_ES
dc.titleCaracterización e identificación de la planta horno de vacío y bombardeo iónico para procesos de implantación iónica por inmersión en plasma (PIII) y propuesta de estructura de controles_ES
dc.typeTrabajo Fin de Grado/Gradu Amaierako Lanaes
dc.typeinfo:eu-repo/semantics/bachelorThesisen
dc.date.updated2018-07-18T11:13:41Z
dc.contributor.affiliationEscuela Técnica Superior de Ingenieros Industriales y de Telecomunicaciónes_ES
dc.contributor.affiliationTelekomunikazio eta Industria Ingeniarien Goi Mailako Eskola Teknikoaeu
dc.description.degreeGraduado o Graduada en Ingeniería Eléctrica y Electrónica por la Universidad Pública de Navarraes_ES
dc.description.degreeIngeniaritza Elektriko eta Elektronikoko Graduatua Nafarroako Unibertsitate Publikoaneu
dc.rights.accessRightsAcceso embargado 5 años / 5 urteko bahituraes
dc.rights.accessRightsinfo:eu-repo/semantics/embargoedAccessen
dc.embargo.lift2023-06-04
dc.embargo.terms2023-06-04es_ES
dc.contributor.advisorTFELera Carreras, Gabrieles_ES


Files in this item

Thumbnail

This item appears in the following Collection(s)

Show simple item record