Filtro de cavidades apiladas en tecnología CLAF-SIW para ondas milimétricas
Date
Authors
Director
Publisher
Project identifier
- AEI/Plan Estatal de Investigación Científica y Técnica y de Innovación 2021-2023/TED2021-129938B-I00/
- AEI/Plan Estatal de Investigación Científica y Técnica y de Innovación 2017-2020/PID2020-112545RB-C54/ES/
- AEI/Plan Estatal de Investigación Científica y Técnica y de Innovación 2017-2020/PID2020-112545RB-C53/ES/
- AEI/Plan Estatal de Investigación Científica y Técnica y de Innovación 2021-2023/PDC2022-133900-I00/ES/
- AEI/Plan Estatal de Investigación Científica y Técnica y de Innovación 2021-2023/PDC2023-145862-I00/ES/
Abstract
Este trabajo presenta la validación de la tecnología CLAF-SIW para la fabricación de filtros en el rango de frecuencias de ondas milimétricas. El filtro estudiado es un filtro paso banda compuesto por cuatro cavidades apiladas y acopladas mediante iris (se utilizan cinco iris en total). Cada capa está compuesta por una placa de circuito impreso (PCB) de espesor comercial. Las capas de iris se prototipan metalizando los bordes de las ranuras, mientras que las capas de cavidad contienen la estructura CLAF-SIW utilizando setas dobles como estructura EBG. El filtro se obtiene inmediatamente simplemente adaptando el ancho efectivo de la cavidad CLAF-SIW a la cavidad de referencia, para la cual se han estudiado los efectos que afectan a este valor efectivo. Se ha fabricado un prototipo con buena concordancia entre la medición, la simulación y la respuesta ideal del filtro de cavidad para una banda de paso de 36 a 37,5 GHz. Las pequeñas discrepancias se deben a las diferencias en la separación real entre los laminados y las tolerancias de fabricación.
Description
Keywords
Department
Faculty/School
Degree
Doctorate program
item.page.cita
item.page.rights
Con permiso de URSI.
Los documentos de Academica-e están protegidos por derechos de autor con todos los derechos reservados, a no ser que se indique lo contrario.